我单位推荐下列项目申报2018年度北京市科学技术奖，特进行公示。公示期：_2018_年_3 月_14__日至_2018_年_3_月_24日，公示期内如对公示内容有异议，请您向_科研处__（推荐单位科管部门名称）反映。

联系人及联系电话： 张文 82265883

附：公示内容

1.项目名称：脑细胞外间隙成像分析方法

2.候选单位（含排序）：北京大学第三医院、北京大学、中国科学院化学研究所、华润万东医疗装备股份有限公司

3.候选人（含排序）：韩鸿宾、傅瑜、袁兰、洪远凯、崔德华、闫军浩、和清源、王为民、舒春英

4.项目简介

4.1研究目的：

百余年来，以神经细胞为主要研究对象的神经科学学术成绩斐然，而对占据脑容积20%的细胞外间隙（ECS）的认识存在盲区，其在认知、脑病发生机制及治疗中的作用远未阐明，神经疾病药物研发也因此陷入整体失败的困境。为了突破这种困难的局面，申请人及其团队在多项国家和省部级科研课题的支持下，对神经系统成像新技术进行了深入持久研究，提出了基于信息科学、数理方程与分子影像技术的多项新型神经影像成像方法，提出并建立了磁示踪ECS成像分析技术（专利号：ZL 200980126605.2），解决了脑深部ECS信号采集与定量分析的理论建模难题，应用该方法，课题组揭示了脑深部部分区域ECS超微结构特征以及其内ISF引流的途径与规律。应用上述理论方法，结合新方法对脑内ECS结构新发现和新认识的基础上，发明了经ISS途径的新型给药方法(simple diffusion delivery, SDD)，解决了CED存在的几个技术难题，发明获得美国发明专利（专利号：US9192619B2）。

4.2申请人及课题组的发明及研究的主要技术创新点总结如下：

（1）发明脑细胞外间隙成像分析方法，实现脑ECS微观结构定量分析与成像技术。

（2）发现脑组织液引流分区现象，且各脑区内分子或药物的转运速度不同。

（3）建立了经脑ECS途径给药新方法：简单扩散给药（SDD），解决了药物通过血脑屏障的技术瓶颈，较美国军方拥有的专利技术更微创、高效而准确。

（4）应用新型成像技术方法，实现对脑内微小病变的成像与定量诊断分析。

4.3成果应用推广及对行业、产业发展的推动：

课题组连续16年举办全国磁共振成像新技术学习班，为国内培养磁共振成像工程技术人员2000余人。实验室在2011年经过北京市科委认定为北京市磁共振成像设备与技术重点实验室。所研究成果受到卫计委、工信部相关部门重视和认可，委托实验室筹备建设我国首个医学磁共振成像工程技术社团组织：中国医学装备协会磁共振成像专委会。 创新产品应用于万东医疗、东软医疗、TCL医疗、中科理想等医疗设备生产企业，取得经济效益，为国产MRI技术创新发展提供技术支撑。围绕上述研究，申请人共主持国家自然基金、科技支撑、科技部重大仪器专项课题等国家省部级科研项目12项。国内外发表论著122篇，其中SCI收录28篇，他引83次，申报专利21项，已授权9项。